Deposição
Obtenha insights e acelere o processo de desenvolvimento.
A Advanced Energy fornece soluções de fornecimento de energia e controle para aplicações críticas de deposição de filmes finos e geometrias de dispositivos. Para solucionar os desafios do processamento de wafers, nossas soluções de conversão de energia de precisão permitem otimizar a precisão, a precisão, a velocidade e a repetibilidade do processo.
Oferecemos uma ampla gama de frequências de RF, sistemas de energia CC, níveis de potência de saída personalizados, tecnologias de correspondência e soluções de monitoramento de temperatura por fibra óptica que realmente permitem um melhor controle do plasma do processo. Também integramos o Fast DAQ™ e nosso pacote de aquisição e acessibilidade de dados para fornecer insights sobre o processo e acelerar o processo de desenvolvimento.
Saiba mais sobre nossos processos de fabricação de semicondutores para encontrar a solução que melhor atende às suas necessidades.
Seu desafio
De filmes usados para padronizar dimensões de circuitos integrados a filmes condutores e isolantes (estruturas elétricas) e filmes metálicos (interconexão), seus processos de deposição exigem controle em nível atômico — não apenas para cada característica, mas em todo o wafer.
Além da estrutura em si, os filmes depositados devem ser de alta qualidade. Eles precisam possuir a estrutura de grãos desejada, uniformidade e espessura conformada, além de serem isentos de espaços vazios — além de fornecer as tensões mecânicas (compressão e tração) e as propriedades elétricas necessárias.
A complexidade só aumenta. Para lidar com as limitações da litografia (nós sub-1X nm), as técnicas de padronização dupla e quádrupla autoalinhadas exigem que seu processo de deposição produza e reproduza o padrão em cada wafer.
Nossa Solução
Ao implantar as aplicações de deposição e geometrias de dispositivos mais críticas, você precisa de um líder de mercado confiável.
A tecnologia de fornecimento de energia de RF e correspondência de alta velocidade da Advanced Energy permite que você personalize e otimize a precisão de energia, a precisão, a velocidade e a repetibilidade do processo necessárias para todos os processos avançados de deposição de PECVD e PEALD.
Utilize nossa tecnologia de gerador CC para ajustar sua resposta de arco configurável, precisão de potência, velocidade e repetibilidade de processo necessárias para processos de deposição de PVD (pulverização catódica) e ECD.
Benefícios
● A estabilidade aprimorada do plasma e a repetibilidade do processo aumentam o rendimento
● A entrega precisa de RF e DC com controle digital completo ajuda a otimizar a eficiência do processo
● Resposta rápida às mudanças de plasma e gerenciamento de arco
● Pulsação multinível com ajuste de frequência adaptável melhora a seletividade da taxa de gravação
● Suporte global disponível para garantir o máximo tempo de atividade e desempenho do produto