Deposição
Obtenha insights e acelere o processo de desenvolvimento.
A Advanced Energy fornece soluções de fonte de alimentação e controle para aplicações críticas de deposição de filmes finos e geometrias de dispositivos.Para resolver os desafios de processamento de wafer, nossas soluções de conversão de energia de precisão permitem otimizar a precisão, a precisão, a velocidade e a repetibilidade do processo.
Oferecemos uma ampla gama de frequências de RF, sistemas de energia CC, níveis de saída de energia personalizados, tecnologias correspondentes e soluções de monitoramento de temperatura por fibra óptica que realmente permitem controlar melhor o plasma do processo.Também integramos o Fast DAQ™ e nosso conjunto de aquisição de dados e acessibilidade para fornecer informações sobre o processo e acelerar o processo de desenvolvimento.
Saiba mais sobre nossos processos de fabricação de semicondutores para encontrar a solução que atenda às suas necessidades.
Seu desafio
De filmes usados para padronizar dimensões de circuitos integrados a filmes condutores e isolantes (estruturas elétricas) e filmes metálicos (interconexão), seus processos de deposição exigem controle em nível atômico — não apenas para cada recurso, mas em todo o wafer.
Além da estrutura em si, os filmes depositados devem ser de alta qualidade.Eles precisam possuir estrutura de grão desejada, uniformidade e espessura conforme, e ser isentos de vazios - e isso além de fornecer as tensões mecânicas (compressão e tração) e propriedades elétricas necessárias.
A complexidade só continua a aumentar.Para resolver as limitações da litografia (nós sub-1X nm), as técnicas de padronização dupla e quádrupla auto-alinhadas exigem que seu processo de deposição produza e reproduza o padrão em cada wafer.
Nossa solução
Ao implantar as aplicações de deposição e geometrias de dispositivos mais críticas, você precisa de um líder de mercado confiável.
O fornecimento de energia de RF e a tecnologia de correspondência de alta velocidade da Advanced Energy permitem que você personalize e otimize a exatidão, a precisão, a velocidade e a repetibilidade do processo necessárias para todos os processos avançados de deposição de PECVD e PEALD.
Utilize nossa tecnologia de gerador CC para ajustar sua resposta de arco configurável, precisão de potência, velocidade e repetibilidade de processo necessária para processos de deposição de PVD (sputtering) e ECD.
Benefícios
● A estabilidade aprimorada do plasma e a repetibilidade do processo aumentam o rendimento
● O fornecimento preciso de RF e CC com controle totalmente digital ajuda a otimizar a eficiência do processo
● Resposta rápida a alterações de plasma e gerenciamento de arco
● Pulsação multinível com ajuste de frequência adaptável melhora a seletividade da taxa de gravação
● Suporte global disponível para garantir o máximo tempo de atividade e desempenho do produto